Badania i rozwój
powłok PVD

Na tej stronie znajdziesz:

nasz zakres wytwarzanych powłok PVD
jak realizujemy usługi i prace B+R związane z wytwarzaniem powłok
kontakt do naszego specjalisty

zobacz jakie powłoki możemy rozwijać

kliknij aby przejść do naszego zakresu badań

Zakres powłok badanych i rozwijanych w laboratorium Technolutions

Metody jakimi możemy wytworzyć powłoki:

• Ewaporacja termiczna
• Katodowe odparowanie łukowe (CAE)
• Sputtering magnetronowy (MS)

Nad jakimi powłokami możemy pracować?

Ze względu na materiał:
• powłoki metaliczne
• powłoki ceramiczne
• powłoki gradientowe
• powłoki wielowarstwowe
• powłoki kompozytowe

Ze względu na zastosowanie:
• powłoki optyczne
• powłoki medyczne
• powłoki dla przemysłu kosmicznego
• powłoki antyzużyciowe
• powłoki antykorozyjne
• powłoki dekoracyjne

*specjalne, według indywidualnych ustaleń

Jak badamy opracowywane powłoki:

• pomiar grubości
• mikrostruktura
• topografia i morfologia powierzchni
• zwilżalność
• twardość
• przyczepność (adhezja)
• odporność na korozję
• odporność na zużycie przez tarcie (tribologia)

*inne według ustaleń indywidualnych

Nasze urządzenie do
projektowania powłok PVD

PVD Moorfield Minilab 080

W naszym laboratorium dysponujemy laboratoryjnym stanowiskiem do wytwarzania powłok PVD Moorfield Minilab 080, które jest uniwersalnym urządzeniem do wytwarzania powłok metodami rozpylania magnetronowego oraz ewaporacji termicznej.

System wyposażony jest w:

komorę roboczą urządzenia o objętości 80l
3 źródła magnetronowe o średnicy 3’’ z możliwością pracy w trybie prądu stałego DC, impulsowego oraz prądu o częstotliwości radiowej RF,
jedno źródło do ewaporacji termicznej materiałów metalowych
system Load-lock, pozwalający na skrócenie czasu wymiany próbek poprzez zapowietrzenie i odpompowanie jedynie śluzy, a nie całej objętości komory
zasilacz prądu stałego o mocy 800 W,
zasilacz prądu o częstotliwości 13,56 MHz (RF) o mocy 300 W,
konfigurację sputter-up w geometrii konfokalnej,
3 przepływomierze do podawania gazów roboczych: Ar, O2 i N2.